ABOUT US
ジャパンクリエイトについて
PROJECT
2つの主力製品
-
ウェットプロセス装置
ウェットプロセスは、半導体の製造において非常に重要な工程です。当社は、この分野において重宝される装置である「ウエハ洗浄装置」や「スピンドライヤー」などをイチから設計・製造しています。用途やプロセス条件に応じて、液体の流れ方や温度管理、回転制御や乾燥機構などをカスタマイズ設計できるのが特長。研究・開発用途の単体装置から、多槽型装置といった量産装置まで幅広く対応し、1台ごとに最適な仕様を追求する「完全オーダーメイド」の製造サービスを提供しています。
-
真空プロセス装置
薄膜形成も半導体の性能を左右する重要な工程のひとつです。その中核を担うのが、「プラズマCVD装置」や「スパッタリング装置」、「EB蒸着装置」といった真空プロセス装置。当社は、こうした装置の筐体設計から制御系、プロセスチャンバーの最適化まで一貫して対応可能。用途や膜種、基板サイズや処理速度など、クライアントのニーズに応じて高度なカスタマイズ設計を行っています。真空環境下での安定したプロセス制御や、精密な粒子分布の実現など、高い技術力を求められることも少なくありませんが、専門技術を有するプロたちで力を合わせて課題を乗り越えています。
方針
-
“すぐ行動”がこだわり！
少数精鋭ならではのフットワークの軽さを活かした柔軟かつスピーディーな対応が強みです。これは当社が大切にするこだわりでもあります。なぜなら、技術が日進月歩の勢いで進化する製造業界には、そんな対応力の高さが求められると考えているから。クライアントの“安心”につなげるべく、あらゆる場面での質の高いサービスを提供するのが当社のスタイルです。
-
「とりあえず、ジャパンクリエイトに聞いてみよう」
…と思っていただけるよう、自社装置はもちろん、他社装置のメンテナンスやカスタマイズのご相談も数多く承っています。そんな姿勢で努めてきたからこそ、高度な技術力と豊富な実績に加え、最適なソリューションを導き出すための多角的な視野を養うことができたと自負しています。
-
最初から最後まで、思いやりの気持ちを忘れない
現場での使い勝手や設置のタイミングなどによって、案件完了の直前に仕様変更が発生することも少なくありません。しかし、そんなときこそ、私たちの真価が問われます。真摯な姿勢で丁寧なコミュニケーションに努め、焦らずに対応する。「どうしても変更したい…」そんなクライアントの気持ちを汲むことが、信頼構築のうえでとても大切なんです。プロフェッショナル…それ以前に人として、最後の最後まで、クライアントに寄り添っていきましょう。